Numer: 11b/2012 Str. 358
Autorzy: Liudas Pranevicius , Simona Tuckute , Darius Milcius , Marius Urbonavicius :
Tytuł: Badanie uwodornienia warstw Ti pod wpływem promieniowania jonowego z plazmy wodnej
Streszczenie: Celem niniejszego artykułu jest wykazanie, że technika implantacji plazmowej umożliwia podział cząsteczek wody na jej atomy składowe i przechowanie implantowanego wodoru w objętości nanokrystalicznego Ti. Głowne parametry obróbki plazmowej: ciśnienie pary wodnej – 1 - 10 Pa, prąd wyładowania – 0,2 A i napięcie – 250 - 300 V. Nałożone i poddane obróbce plazmowe warstwy Ti zostały scharakteryzowane za pomocą dyfraktometru rentgenowskiego (XRD), elektronowej spektroskopii dyspersyjnej (EDS) połączonej ze skaningowym mikroskopem elektronowym (SEM). Profile rozkładu wybitych atomów wodoru zostały zmierzone doświadczalnie za pomocą optycznej spektroskopii emisyjnej wyładowania jarzeniowego (GDOES) oraz wybitych atomów tlenu za pomocą emisyjnej spektroskopii elektronów Augera (AES).
Słowa kluczowe: para wodna, plazma, wodór.